Tm:YLF晶体案例 (一) -3*3*20mm
客户需求 品名 规格/mm 备注 Tm:YLF 3*3*20mm 双抛,镀膜 加工指标 材料:Tm:YLF晶体 浓度:3.0% 尺寸:3*3*20mm 抛光:3*3双面激光级抛光 镀膜:3*3双面AR …
客户需求 品名 规格/mm 备注 Tm:YLF 3*3*20mm 双抛,镀膜 加工指标 材料:Tm:YLF晶体 浓度:3.0% 尺寸:3*3*20mm 抛光:3*3双面激光级抛光 镀膜:3*3双面AR …
客户需求 品名 规格/mm 备注 2%Yb:CaF2 晶体 DIA10 *10 mm (尺寸公差:+/-0.05mm) 双面抛光 镀膜 加工指标 镀膜 ,2% Yb ,无Na, 低温用 低温用,(80 …
客户需求 品名 尺寸/mm 备注 5%YbKGW 晶体 3*3*5mm 晶体方向:Np 端面双抛 (3*3mm) 不镀膜 5%YbKGW 晶体 3*3*2mm 晶体方向:Np 端面双抛 (3*3mm) …
客户需求 品名 规格/mm 备注 Cr:ZnSe 2*2*2.5mm 双抛 加工指标 方向公差:< 0.5° 厚度/直径公差:±0.10 mm 面形(平面度):<(λ/2-λ/4)@632 …
客户需求 品名 规格/mm 备注 Er,Yb:YAB 3*3*1.5 mm C cut,双抛,不镀膜 加工指标 方向公差: < 0.5° 厚度/直径公差: ±0.10 mm 面形(平面度): & …
客户需求 品名 规格/mm 备注 Er, Yb:glass 2*2*2.5mm 镀膜片 加工指标 浓度:大于1.19% 尺寸公差:长、宽(0/-0.1)mm,厚度公差:±0.1mm 光洁度:10/5, …
客户需求 品名 规格/mm 备注 Er,Yb: glass 2*2*2.5mm 940AR/1535HR-1535AR 加工指标 方向公差: < 0.5° 厚度/直径公差: ±0.10 mm 面 …
客户需求 品名 规格/mm 备注 Ti: sapphire 4*4*30mm 布氏角切割, 双面抛 不镀膜, 吸收>90% Ti: sapphire Ø4*15mm 浓度:0.1%TiØ4*15 …
客户需求 品名 规格/mm 备注 Cr:ZnSe多晶 2*4*5mm 2*4双面抛光 加工指标 公差:±0.05mm 光洁度:40/20 平面度:λ/8@633nm 平行度:<30″ …